Amorphous alumina thin films deposited on titanium: Interfacial chemistry and thermal oxidation barrier properties
Type:
Journal
Info:
Physica Status Solidi (a)
Date:
2015-11-06
Author Information
| Name | Institution |
|---|---|
| Loïc Baggetto | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
| Cédric Charvillat | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
| Yannick Thébault | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
| Jérôme Esvan | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
| Marie-Christine Lafont | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
| Emmanuel Scheid | Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes (LAAS) |
| Gabriel M. Veith | Oak Ridge National Laboratory |
| Constantin Vahlas | Centre Inter-universitaire de Recherche et d'Ingéniérie des Matériaux (CIRIMAT) |
Films
Plasma Al2O3
Film/Plasma Properties
Characteristic: Morphology, Roughness, Topography
Analysis: AFM, Atomic Force Microscopy
Characteristic: Crystallinity, Crystal Structure, Grain Size, Atomic Structure
Analysis: XRD, X-Ray Diffraction
Characteristic: Crystallinity, Crystal Structure, Grain Size, Atomic Structure
Analysis: TEM, Transmission Electron Microscope
Characteristic: Crystallinity, Crystal Structure, Grain Size, Atomic Structure
Analysis: Electron Diffraction
Characteristic: Chemical Composition, Impurities
Analysis: EDS, EDX, Energy Dispersive X-ray Spectroscopy
Characteristic: Chemical Composition, Impurities
Analysis: XPS, X-ray Photoelectron Spectroscopy
Characteristic: Thickness
Analysis: Optical Reflectivity
Characteristic: Images
Analysis: SEM, Scanning Electron Microscopy
Substrates
| Silicon |
| Ti |
Notes
| 424 |