Inductively coupled plasma sources from Plasma ALD, LLC.


Ideal for plasma enhanced atomic layer deposition and other surface engineering applications.


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Integration of plasmonic Ag nanoparticles as a back reflector in ultra-thin Cu(In,Ga)Se2 solar cells

Type:
Journal
Info:
Applied Surface Science 355 (2015) 800 - 804
Date:
2015-07-28
DOI:
http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.07.195

Author Information

Name Institution
Guanchao YinHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Alexander SteigertHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Patrick AndraeHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Manuela GoebeltMax Planck Institute for the Science of Light
Michael LatzelMax Planck Institute for the Science of Light
Phillip ManleyHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Iver LauermannHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Silke ChristiansenMax Planck Institute for the Science of Light
Martina SchmidHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH

Films

Plasma Al2O3

Hardware used: Beneq TFS-200
TMA, Trimethylaluminum, Trimethylalumane, AlMe3, Al(CH3)3
CAS#: 75-24-1
O2, Oxygen
CAS#: 7782-44-7
Deposition Temperature Range N/A

Film/Plasma Properties

Characteristic: Diffusion Barrier Properties
Analysis: -
Diagnostic: -

Substrates

Glass
Ag

Notes

495