Introducing Plasma ALD, LLC's first in-house product.

An economical, compact inductively coupled plasma source.

Ideal for:
  • Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
  • Thin Film Etch
  • Surface cleaning
  • Surface modification

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Liquid-Phase Crystallized Silicon Solar Cells on Glass: Increasing the Open-Circuit Voltage by Optimized Interlayers for n- and p-Type Absorbers

Type:
Journal
Info:
IEEE Journal of Photovoltaics, (Volume:5, Issue:6)
Date:
2015-08-20
DOI:
http://dx.doi.org/10.1109/JPHOTOV.2015.2466434

Author Information

Name Institution
D. AmkreutzHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
W.D. BarkerHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
S. KuhnapfelHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
P. SonntagHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
O. GabrielHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
S. GallHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
U. BloeckHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
Michael SchmidtHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
J. HaschkeHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
B. RechHelmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH

Films

Plasma Al2O3

Hardware used: Oxford Instruments FlexAL
TMA, Trimethylaluminum, Trimethylalumane, AlMe3, Al(CH3)3
CAS#: 75-24-1
Where to buy precursor
O2, Oxygen
CAS#: 7782-44-7
Deposition Temperature = 200C

Film/Plasma Properties

Substrates

Notes

502